半導體外延爐工作原理:
1、反應氣體從鐘罩頂部氣體入口處進入反應室，從排成一圈的六個石英噴嘴噴出，經石英擋板阻擋，沿
基座與鐘罩之間向下，在高溫下反應而在硅片表面沉積生長，反應尾氣在下部排出。
2、溫度分布2061加熱原理:感應線圈內通過高頻大電流，制造渦旋磁場。基座是導體，處于渦旋磁場
中，產生感生電流，電流加熱基座。