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半導體外延爐工作原理:1、反應氣體從鐘罩頂部氣體入口處進入反應室,從排成一圈的六個石英噴嘴噴出,經石英擋板阻擋,沿基座與鐘罩之間向下,在高溫下反應而在硅片表面沉積生長,反應尾氣在下部排出。2、溫度分布2061加熱原理:感應線圈內通過高頻大電流,制造渦旋磁場?;菍w,處于渦旋磁場中,產生感生電流,
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